株式会社Gaianixxは、東京大学発のディープテックスタートアップとして、Si単結晶基板上にチタン酸ジルコン酸鉛や窒化ガリウムなど多様な機能性薄膜を高精度に形成する高付加価値単結晶薄膜ウエハを提供しています。当社は「マルテンサイト変態」を活用した独自の「多能性®中間膜」を開発し、ヘテロエピタキシャル成長における格子定数ミスマッチを解消。これにより、ひずみのない薄膜形成が可能となり、歩留まり向上と製造コストの大幅削減を実現します。また、耐熱性や耐電圧の向上によるMEMSデバイスなどの高性能化も促進できます。Gaianixxは、 高性能化や耐久性向上を実現する 「多能性®中間膜」の製造・販売、および共同開発の受託事業を主軸に、次世代半導体技術の発展に貢献して参ります。